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淨化原理
廢氣(qì)在設備內通過具有一定能量的光照射,光敏半導體材料即被光激發出電子 - 空穴(xué)對,吸附在 光(guāng)敏半導體表麵的溶解氧、水及汙染物分子接受光生電子或空穴,從而發生一係列(liè)的氧(yǎng)化還原(yuán)反應,使汙染物降(jiàng)解(jiě)為二氧化碳和(hé)水等物(wù)質。在外加紫外線的作用下,介質(zhì)放電產生大(dà)量攜能電子轟擊汙染物分(fèn) 子,使其電離、解離和激發,然後便引發一係列複雜的物理、化(huà)學反應,使複(fù)雜的大分子汙(wū)染物轉變為 簡(jiǎn)單(dān)小分子安全物質,從而使汙染物得以降解去除。然後極小部分(fèn)未(wèi)被裂解的汙染物(wù)進入活性炭吸附床, 有(yǒu)機(jī)汙染(rǎn)物被吸附於活性炭的(de)微孔之(zhī)中,最終排放潔淨的氣體。
規(guī)格參數表
產品(pǐn)性能
高效除惡臭:能(néng)高效去(qù)除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要汙染物,以及各種惡(è)臭味,脫臭效率高,脫(tuō)臭效果超過國家1993年頒布的惡臭汙染物排放標準(GB14554-93)。
適應性強:可適應高(gāo)濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質的脫臭淨化處理,可每天24小時連續工作,運行穩定可(kě)靠(kào)。
運行成本低:本(běn)設備無(wú)任何機械動(dòng)作,無噪音,無需(xū)專(zhuān)人管理和日常維護(hù),隻需作定期檢查,本設備能耗(hào)低,設備風阻低,可節約大量排風動(dòng)力能耗。
無需溫濕度處理:惡臭氣體無需(xū)進行特殊的預處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環境溫度在(zài)攝氏-30°-95°之間,濕度在(zài)40%-98%之間均可正常(cháng)工作。
設備占地麵積小,自(zì)重輕(qīng):適合於布置緊湊、場地狹小(xiǎo)等特殊條件。
較優(yōu)質材料製造(zào):防火、防腐蝕性能高,性能穩定,使用(yòng)壽命長。
環(huán)保高科技產品:通過專家及我(wǒ)公(gōng)司工程技術人員長期反複的試驗(yàn),開發研製出的,可分(fèn)解惡臭氣體中(zhōng)有毒有害(hài)物質(zhì),並能達到(dào)想要的脫臭效果,經(jīng)分解後的(de)惡臭氣體,可達到無害化排放,不產生二次汙染,同時(shí)達到高效消毒(dú)殺菌的作用。