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淨化原理
廢氣在設備內(nèi)通過具有一定能量(liàng)的光照射,光敏半導體材料即被光(guāng)激發出電子 - 空穴對,吸附在 光敏半導體表麵的(de)溶解(jiě)氧、水及汙染物分子接受光生電子或空穴,從而發生一係列的氧化還原反應,使汙染物降解為二(èr)氧化碳和水等物質。在外加紫外線的作用下,介質放電產生大量攜能(néng)電子轟擊汙染物分 子,使其電離、解離和激發,然後便引發一係列複雜的(de)物理、化學反應,使(shǐ)複雜的大分子(zǐ)汙染物轉變為 簡單小(xiǎo)分子安(ān)全物質,從而使汙染物得以降解去除。然後極小部分未被裂解的汙染物進入活(huó)性炭吸附床, 有機汙染物被吸附(fù)於(yú)活性炭的微孔之中,最終排放潔淨的氣體。
規格參數(shù)表
產品性能
高效除(chú)惡臭:能(néng)高效去除揮發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要汙染物,以及各種惡臭味,脫臭效率高,脫(tuō)臭效果超(chāo)過(guò)國家1993年頒布(bù)的惡臭汙染物排放標準(GB14554-93)。
適(shì)應(yīng)性強:可適應高(gāo)濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭淨化處理,可每天24小時連續工作,運行穩定可靠。
運行成本低:本設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,隻(zhī)需作定(dìng)期檢查,本設備能耗低,設(shè)備風阻低,可節約大量(liàng)排風動力能耗。
無需溫濕度處理:惡臭(chòu)氣體無需進行特殊的預處理,如(rú)加溫、加濕(shī)等,設備工作環境溫(wēn)度在攝(shè)氏-30°-95°之間(jiān),濕度在40%-98%之間均可正常工作。
設備占地麵積小,自重(chóng)輕(qīng):適合於布置緊湊、場地狹(xiá)小等特(tè)殊條件。
較優質材料製造:防火、防腐蝕性能高,性能穩定,使用壽命長。
環保高科技產品:通過(guò)專(zhuān)家及(jí)我公司工程技術人員長期反複的試驗(yàn),開發研製出的,可分解惡(è)臭(chòu)氣體中有毒有害物質(zhì),並能達到想要的脫臭效(xiào)果,經分解後的(de)惡臭氣體,可達到無害化排放,不產生二次汙染,同時達到(dào)高效消(xiāo)毒殺(shā)菌的作用。