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淨化原理
廢氣（qì）在設備內通過具（jù）有一定能量的光照射，光敏（mǐn）半導體材料即（jí）被光激發（fā）出電子 - 空穴對，吸附在 光敏半導體表麵的溶解氧、水及汙染物（wù）分子接受光生（shēng）電子或空穴，從而發生一係列的氧化還原反應，使汙染物降解為二氧化碳和水等物質。在外（wài）加紫外線的作用下，介質放電產（chǎn）生大量攜能電（diàn）子轟擊汙染物分 子，使其電離、解離和激發，然後便引（yǐn）發一係（xì）列複雜的物（wù）理、化學反應，使複雜的大分子汙染物轉變為 簡（jiǎn）單小分子安全物質，從而使汙染物得以降解去除。然後極小部分未被裂解（jiě）的汙染物進入活性炭吸附床（chuáng）， 有機汙染物被吸附於活（huó）性炭的微孔之中，最（zuì）終排（pái）放（fàng）潔淨的氣體。
規格參數表
產品性能
高效除惡臭：能高（gāo）效去除揮（huī）發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等（děng）主要汙染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭汙（wū）染物排放標準（GB14554-93）。
適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭淨化處理，可每天24小時連（lián）續（xù）工作，運行穩定可靠。
運行成本低：本設備無任何機械（xiè）動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，隻需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻低，可節約大量排風動力能耗。
無需溫濕度處理：惡臭（chòu）氣體（tǐ）無需進行特殊的（de）預處理（lǐ），如加溫（wēn）、加（jiā）濕等（děng），設備工作環境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度在40%－98%之（zhī）間（jiān）均可（kě）正常（cháng）工作。
設備占（zhàn）地麵積小，自（zì）重輕：適合（hé）於布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
較優質材（cái）料製造：防火、防腐蝕（shí）性能高，性能穩定，使用壽命長。
環保高科技產品：通過專家及我公司工程（chéng）技術人（rén）員長期反複的試驗，開發研製出的，可分解惡臭氣體中有毒有害物質，並能達到想要的脫臭效果，經分解後的惡臭氣體，可達到無害化排放，不產生二次汙染，同時達到高效消毒殺菌（jun1）的作用。
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